半導(dǎo)體性碳納米管溶液研磨分散機，半導(dǎo)體性單壁碳納米管99.9%溶液研磨機,單壁碳納米管溶液分散機,碳納米管分散機，碳納米管分散設(shè)備，碳納米管溶液研磨分散機，高速研磨分散機，單壁碳納米管研磨分散機，德國進(jìn)口研磨分散機
IKN 研磨分散機采用德國博格曼雙端面機械密封，在保證冷卻水的前提下，可24小時連續(xù)運行。而普通乳化機很難做到連續(xù)長時間的運行，并且普通乳化機不能承受高轉(zhuǎn)速的運行。
半導(dǎo)體性單壁碳納米管作為一維納米材料，重量輕，結(jié)構(gòu)連接*，具有許多異常的力學(xué)、電學(xué)和化學(xué)性能。近些年隨著碳納米管及納米材料研究的深入其廣闊的應(yīng)用前景也不斷地展現(xiàn)出來。
半導(dǎo)體性碳納米管溶液性質(zhì)
直徑：1.2nm-1.7nm
長度：300nm-5μm
金屬雜質(zhì)：<1%
無定型碳：1-5%
半導(dǎo)體性碳納米管溶液應(yīng)用
復(fù)合材料，電子器件，熒光標(biāo)記
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半導(dǎo)體性碳納米管溶液制備難點
目前制備碳納米管的方法很多,然而這些方法所制得的產(chǎn)物中除碳納米管外常常還含有無定形碳、碳納米粒子及催化劑顆粒等雜質(zhì),這些雜質(zhì)的存在直接影響到碳納米管的性能測試及其應(yīng)用研究,因此碳納米管的純化研究十分必要與重要。而不同制備方法所得碳納米管的性質(zhì)以及所引入的雜質(zhì)都不相同,這就增加了碳納米管純化研究的難度。上海IKN/依肯公司結(jié)合該領(lǐng)域研究前沿對碳納米管的制備方法做了深入研究，根據(jù)以往實驗經(jīng)驗*使用IKN碳納米管溶液膠體磨。
半導(dǎo)體性碳納米管溶液研磨機設(shè)備介紹：
IKN研磨機在碳納米管導(dǎo)分散中有著突出的優(yōu)勢，IKN研磨機是將膠體磨和分散機合二為一的設(shè)備，先研磨后分散，可以將碳納米管充分、均勻的分散到溶劑或樹脂當(dāng)中，避免團(tuán)聚，分散更均勻、穩(wěn)定。
半導(dǎo)體性碳納米管溶液研磨分散機是膠體磨（研磨機）和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。初級由具有精細(xì)度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。
從設(shè)備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：
1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）
2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好）
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）
5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）
線速度的計算：
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素，超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的
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